Сначала нам нужно понять основы каждого из них
Рабочий принцип:
Посещение воды - это процесс, который включает в себя добавление ионов металлов в заготовку с использованием электрического тока в растворе. Этот процесс приводит к образованию металлического покрытия на поверхности заготовки. Это создает металлическое покрытие на поверхности заготовки. Процесс происходит в жидкости и требует электролицера и источника питания для доставки тока.
Вакуумное покрытие : это физический процесс осаждения в паре, который происходит в вакуумной среде. Объект помещается в вакуумную камеру. Затем на поверхность добавляется тонкий пленок. Это делается с использованием таких методов, как испарение или распыление.
Сфера применения:
Посещение воды - это метод покрытия металлических поверхностей с использованием электролиза. Он обычно используется для таких материалов, как медь, хром и никель.
Вакуумное покрытие : подходит для поверхностного покрытия различных материалов, включая металлы, керамику, пластмассы и т. Д.
Свойства покрытия:
Посещение воды (электролитическое покрытие) : покрытия обычно толще и обеспечивают лучшую коррозионную стойкость и проводимость. Тем не менее, они могут быть не такими тонкими и однородными, как вакуумные покрытия.
Вакуумное покрытие : пленки обычно тоньше и имеют более однородное распределение толщины, потому что они применяются в вакуумной среде. Этот метод может быть использован для создания высокопроизводительных приложений, таких как оптические пленки и анти-рефлексивные покрытия.
Сложность и стоимость:
Посещение воды использует простое оборудование и эксплуатацию, но требует обработки электролита и сточных вод, что может вызвать проблемы с окружающей средой и здоровьем. Затраты обычно низкие.
Вакуумное покрытие : более сложное оборудование, требует поддержания вакуумной среды и имеет более высокие технические требования. Затраты могут быть высокими, особенно в высокопроизводительных приложениях для покрытия.
Что такое технология вакуумного покрытия?
Отложение испарения : испарение и осаждение тонких пленок на поверхность объекта путем нагрева. Это может быть достигнуто с помощью электронного луча, нагрева сопротивления или лазерного нагрева.
Осаждение распыления : ионы газа попадают в твердый материал и переносят его на поверхность, используя электрическое поле в вакуумной камере. Это создает униформу и может быть выполнена под разными углами.
Химическое осаждение пара (CVD):
Магнитроновое распыление : это метод распыления, которая увеличивает скорость осаждения тонких пленок, внедряя магнитное поле для повышения эффективности ионной бомбардировки.
Электронное испарение луча (ebe) : электронный луч используется для нагрева тонких пленок, в результате чего они испаряются и осаждаются на поверхности объекта. Этот метод распространен в приготовлении высококачественных тонких пленок.
Эпитаксия молекулярного луча (MBE): в основном используется для выращивания монокристаллических тонких пленок, тонкопленочные материалы откладываются слоем по слое, контролируя влияние молекулярного луча.
PVD может быть достигнут различными методами, наиболее распространенные из которых включают:
Осаждение испарения : твердый тонкопленочный материал нагревается в вакуумной камере для испарения и отложения на поверхности объекта. Испариваемый пленка материал образует покрытие путем конденсации на охлажденном подложке.
Осаждение распыления : сплошной тонкопленочный материал распыляется на поверхность объекта путем ионной бомбардировки с помощью электрического поля, нанесенного в вакуумной среде. Пары материала, произведенного процессом распыления, депонируются на подложке.
Преимущества технологии PVD включают:
Фильм -единообразие : технология PVD может производить относительно однородные пленки, что важно во многих приложениях, таких как оптические покрытия.
Чистота материала : поскольку она происходит в вакуумной среде, PVD часто может производить пленки с высокой чистотой для применений, которые требуют высокой чистоты.
Точный контроль : процесс PVD может использоваться для контроля природы и толщины пленки путем регулировки параметров, таких как температура нагрева, поток газа и ионная бомбардировка.
Технология PVD (физическое осаждение пара) имеет широкий спектр применений в нескольких отраслях.
Оптика и оптоэлектроника : PVD используется для приготовления оптических покрытий, таких как зеркала, антирефлексивные покрытия, фильтры и т. Д. Для повышения производительности оптических компонентов.
Электронная промышленность: при изготовлении полупроводников и электронных устройств технология PVD используется для приготовления металлических соединительных проводов, электронных пленок и т. Д. Для улучшения проводимости и связи электронных компонентов.
Декоративная и ювелирная индустрия : PVD используется для приготовления тонких металлических фильмов на ювелирных изделиях и аксессуарах, чтобы придать им привлекательный внешний вид и цвет.
Автомобильные и аэрокосмические пленки: PVD -пленки могут быть использованы для улучшения твердости поверхности, истирания и коррозионной стойкости автомобильных и самолетных компонентов для повышения производительности и долговечности.
PVD Tech делает покрытия медицинского устройства более безопасным, снижая риски раздражения и инфекции на поверхностях.
Режущие инструменты и инструменты : технология PVD может использоваться для приготовления покрытий для лезвий, ножей и упражнений для улучшения их износа, коррозии и разрезания.
Солнечная и энергия : PVD может использоваться для приготовления прозрачных проводящих покрытий для солнечных элементов, повышения эффективности фотоэлектрического преобразования.
Индустрия покрытия: PVD может использоваться для покрытия автомобилей, домохозяйств и т. Д. Для повышения долговечности и украшения поверхности.
Санитарная промышленность : PVD-технология может использоваться для приготовления коррозионных покрытий на смесителях, фитингах для ванной комнаты и т. Д., Чтобы продлить срок службы.
В отрасли аккумулятора PVD используется для изготовления покрытий для электродов батареи, что помогает улучшить производительность батареи.
Технология PVD важна для многих отраслей. Он создает тонкие пленки, преобразуя твердые материалы в вакууме. Эти пленки имеют определенные свойства и функции, что делает их полезными для поверхностных покрытий в различных применениях.
Почему выбирают современные решения PVD?
В то время как традиционное водоотборение подходит для базовой отделки металлов, наше оборудование для ионного покрытия вакуумное покрытие предлагает:
✔ 50% более тонкие покрытия с лучшей адгезией
✔ Экологически чистый процесс (без сточных вод)
✔ Универсальность материала от субстратов большого диаметра до микрокомпонентов
Для специализированных приложений, таких как крупные системы GD, PVD обеспечивает непревзойденную точность в аэрокосмической и инструментальной промышленности.
Исследуйте наш портфель оборудования для покрытия, чтобы найти идеальное решение для ваших потребностей в области поверхности.
